高出力エキシマモジュール

新規開発のランプ・ユニット設計により従来比6倍以上の高照度エキシマランプを実現しました。

• ランプ表面照度300ｍW/cm2以上の強力な真空紫外光（172nm）により、タクトタイム短縮に貢献します。
• ランプ本数が少なく、省スペース化に役立ちます。
• 点滅点灯で消費電力を最小限に抑えます。
• 単一波長のため、ワークの低温処理が可能です。

用途

半導体、液晶基板のドライ洗浄、アッシング
ゴムローラ、シリコンシート等の表面改質など

仕様

洗浄メカニズム

• エキシマランプより高い光エネルギーをもつ172nmを照射（図1）
• 172nmのエネルギーで、有機物の結合を直接切断（図2）
• 172nmの酸素分解で生成されるオゾンなどの活性酸素種が有機物を分解 → 除去（図2）

洗浄性能

デモ機（試作機）による洗浄、改質実験も可能です。お気軽にお問い合わせください。